[发明专利]一种基因芯片荧光标记物的洗涤方法及其专用洗脱液无效
| 申请号： | 00114997.0 | 申请日： | 2000-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN1314494A | 公开（公告）日： | 2001-09-26 |
| 发明（设计）人： | 毛裕民;谢毅;李瑶 | 申请（专利权）人： | 上海博德基因开发有限公司 |
| 主分类号： | C12Q1/68 | 分类号： | C12Q1/68 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200092 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基因芯片荧光标记物的洗脱方法和专用于该方法的洗脱液,找出了一种很适合洗脱Cy3的一种溶剂－Tween20,其分子量与Cy3的相当,Cy3能溶解于Tween－20中,能随着溶剂洗脱出来,而不会结合在玻片上干扰信号。同时,将温度提高到50℃－60℃,这样能更有效的去除一些杂质和一些非特异性结合,完全保证除去杂交背景,分析结果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基因芯片 荧光 标记 洗涤 方法 及其 专用 洗脱 | ||
【主权项】：
1、一种基因芯片杂交后荧光标记物Cy3、Cy5的洗涤方法，其特征在于，(1)将洗脱温度提高到50-60℃；(2)选择聚氧乙烯山犁醇酐单月桂酸脂作为洗脱液。对杂交后玻片的具体操作过程如下：①1×SSC+0.2％SDS于50℃-60℃浸洗10-15分钟左右.②1×SSC+(0.1％-2％)Tween20于50℃-60℃浸洗10-15分钟左右.③0.1×SSC+0.2％SDS于室温浸洗10-15分钟左右.④ddH2O于室温浸洗2-4分钟左右.⑤晾干，扫描。
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