[发明专利]利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法无效

专利信息
申请号: 00808764.4 申请日: 2000-06-07
公开(公告)号: CN1399788A 公开(公告)日: 2003-02-26
发明(设计)人: C·C·埃斯莱曼;C·M·维策尔;R·E·麦科伊 申请(专利权)人: 汤姆森许可公司
主分类号: H01J9/14 分类号: H01J9/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 章社杲
地址: 法国布洛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在薄金属片(32)上蚀刻孔(44)以形成用于彩色显像管的荫罩的改进方法中,所述金属片在其一主层面上具有第一耐酸模版(38)而在其另一主层面上具有第二耐酸模版(40)。至少这两个模版的其中之一在其上预设为孔的位置处具有开口(42)。所述改进包括通过平面磁组件(30)以磁力将所述金属片固定并移动以磁力固定所述金属片的所述磁组件通过蚀刻腔(12)的步骤。所述磁组件包括支承于耐酸板(34)之上的磁性层(36)。
搜索关键词: 利用 组件 蚀刻 薄荫罩 方法
【主权项】:
1.一种在薄金属片(32,54)上蚀刻孔(44,78)以形成用于彩色显像管的荫罩的方法,所述金属片在其一主层面上具有第一耐酸模版(38,56),在其另一主层面上具有第二耐酸模版(40,58),所述模版的至少一个在其上所述金属片预设为孔的位置处具有开口(42,60,62),所述方法包括下列步骤:平面磁组件(30,64,72)通过磁力将所述金属片(32,54)固定,所述磁组件包括支承于耐酸板(34,66,74)上的磁性层(36,68,76),以及移动所述磁组件通过蚀刻腔(12,48,50),同时所述组件通过磁力将所述金属片与之固定。
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