[发明专利]用于通过低压等离子体处理容器的装置的真空通路有效
| 申请号： | 00814827.9 | 申请日： | 2000-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1382303A | 公开（公告）日： | 2002-11-27 |
| 发明（设计）人： | 让－米歇尔·里乌斯 | 申请（专利权）人： | 西德尔阿克蒂斯服务公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 黄必青 |
| 地址： | 法国勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用低压等离子体处理容器(30)的装置,该装置包括至少一个处理工位(14),该处理工位包括一个固定的空腔(32),该空腔通过一个真空通路(74)连接着一个低压源;所述的处理工位包括一个活动的盖体(34),该活动的盖体配有容器(30)的支撑装置(54),使得通过移开盖体(34)来确保将容器(30)引进空腔(32),其特征在于,该盖体(34)包括一个连接通道(64),当该盖体(34)处于将空腔(32)密封的封闭会位置时,该连接通道(64)可使空腔(32)与真空通路(74)的一个固定端(68)连通。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 通过 低压 等离子体 处理 容器 装置 真空 通路 | ||
【主权项】：
1.用低压等离子体处理容器(30)的装置，其等离子体由电磁微波激发一种气体而产生，该装置包括至少一个处理工位(14)，所述处理工位包括一个用于容纳要处理的容器的固定空腔(32)，所述空腔通过一个真空通路(74)连接着一个低压源；所述的处理工位(14)包括一个可将所述空腔(32)密封地封闭的活动盖体(34)；通过将所述盖体(34)相对于所述空腔(32)移动来确保在处理前将容器引入所述空腔(32)并在处理后将容器取出；其特征在于，所述盖体(34)包括一个连接通道(64)，当所述盖体(34)处于密封空腔(32)的封闭位置时，所述连接通道(64)可使空腔(32)与所述真空通路(74)的一个固定端(68)连通。
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