[发明专利]抗反射光学多层薄膜无效
| 申请号： | 01118612.7 | 申请日： | 2001-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1389346A | 公开（公告）日： | 2003-01-08 |
| 发明（设计）人： | 朱兆杰 | 申请（专利权）人： | 冠华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 隆天国际专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈红,潘培坤 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种抗反射光学多层薄膜,具有五层结构,且由离基板最远的层开始算起为第一层、第二层、第三层、第四层及第五层。此多层薄膜包含材料为ITO的第一层、材料为SiO2的第二层、材料为NbO的第三层、材料为SiO2的第四层及材料为NbO的第五层。本发明的抗反射光学多层薄膜具有能屏蔽EMI的良好的导电性、可用作触摸式感测面板材料的高透明度、符合视觉效果的低反射率、抗刮伤特性及低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学 多层 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种具有透明导电膜为最外层的抗反射光学多层薄膜，此抗反射光学多层薄膜具有五层结构且在一基板上形成，此5层结构包含由远离基板方向算起之第一层、第二层、第三层、第四层及第五层多层结构；其特征在于该第一层位于该第二层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm；该第二层位于该第三层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；该第三层位于该第四层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为30-100nm；该第四层位于该第五层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；该第五层位于该基板上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm。
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