[发明专利]光头、光记录/再现装置和激光模件无效
| 申请号： | 01121083.4 | 申请日： | 2001-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1345042A | 公开（公告）日： | 2002-04-17 |
| 发明（设计）人： | 涩谷义一 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/09 | 分类号： | G11B7/09;G11B7/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光头、光记录/再现装置和激光模件,所述光头的发射具有不同波长的光束的两个光源2和3同时工作。这两种激光束从光记录介质上反射的光束由检测器4和5同时检测。当具有不同波长的两种光束之一聚焦在光记录介质上时,光记录介质上的另一非聚焦测量光束的光点直径设定为大于所述两种光束之一的光点直径。具有较大光点直径的反射光用于减少跟踪差错信号中的DC偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 光头 记录 再现 装置 激光 模件 | ||
【主权项】：
1.一种供光记录/再现装置用的光头，包括：两个光源，用于发出具有不同波长的光束；两个检测器，独立安排成用于具有不同波长的激光束；和一个衍射装置，用于将来自光记录介质的反射光束引导到具有相应波长的一个检测器上，其中，所述光头利用从检测器得到的输出来检测光记录介质中的聚焦误差和跟踪差错；来自两个光源的激光束从光记录介质上反射的光束同时由分开的光检测器件进行检测；和当具有不同波长的两个光束之一聚焦在供记录/再现的光记录介质上时，光记录介质上的其他非聚焦测量光束的光点直径被设置成大于所述两个光束之一的光点直径。
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