[发明专利]单基光敏成像体系无效
| 申请号： | 01141285.2 | 申请日： | 2001-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN1355445A | 公开（公告）日： | 2002-06-26 |
| 发明（设计）人： | 内堀孝博;樋口徹也 | 申请（专利权）人： | 塞科拉系统株式会社 |
| 主分类号： | G03C1/73 | 分类号： | G03C1/73;G03C1/76;G03C5/00;G03B27/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种自含式光敏材料,包括载体;在载体上的成像层,所述成像层包含显影剂材料和多个包封有光敏组合物和色料前体的光敏微囊;和在成像层上的保护涂层,所述保护涂层包括水溶性或水分散性树脂的固化膜,其中,通过以成像方式将成像层暴露于光化辐射并使微囊破裂,色料前体从微囊中释放并与显影剂材料反应形成彩色图像。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 成像 体系 | ||
【主权项】：
1.一种自含式光敏材料，包括：载体；在载体上的成像层，所述成像层包含显影剂材料和多个包封有光敏组合物和色料前体的光敏微囊；和在成像层上的保护涂层，所述保护涂层包括水溶性或水分散性树脂的固化膜，其中，通过以成像方式将成像层暴露于光化辐射并使微囊破裂，色料前体从微囊中释放并与显影剂材料反应形成彩色图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于塞科拉系统株式会社，未经塞科拉系统株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01141285.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有紧急按钮覆盖的门终端设备
- 下一篇：一种纳米级中药粉体的制备方法
