[发明专利]蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 01142051.0 | 申请日： | 2001-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1346864A | 公开（公告）日： | 2002-05-01 |
| 发明（设计）人： | 石川典夫;森清人 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/04 | 分类号： | C09K13/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻液组合物,该组合物含有透明导电膜用蚀刻液,以及从聚磺酸化合物和聚氧化乙烯－聚氧化丙烯嵌段共聚物构成的物质组中选取的一种或两种以上的化合物。该蚀刻液对发泡性具有抑制作用,而且蚀刻后不产生残渣。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1、一种蚀刻液组合物，该组合物含有透明导电膜用蚀刻液，以及从聚磺酸化合物和聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物构成的物质组中选取的一种或两种以上的化合物。
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