[发明专利]研磨用组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法无效
申请号: | 02107700.2 | 申请日: | 2002-03-29 |
公开(公告)号: | CN1379074A | 公开(公告)日: | 2002-11-13 |
发明(设计)人: | 安福昇;大脇寿树;横道典孝;平野淳一 | 申请(专利权)人: | 不二见株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈剑华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水,二氧化硅,氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康檬酸及酒石酸的有机酸,所述组合物的pH值在1以上但不到7,且组合物中实质上不含有金属离子。 | ||
搜索关键词: | 研磨 组合 使用 存储 硬盘 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.用于研磨存储硬盘的组合物,其特征在于,包含水,二氧化硅,氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康酸及酒石酸的有机酸,所述组合物的pH值在1以上但不到7,且组合物中实质上不含有金属离子。
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