[发明专利]非线性元件和电光学装置及其制造方法以及电子仪器无效
| 申请号： | 02121713.0 | 申请日： | 2002-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1384395A | 公开（公告）日： | 2002-12-11 |
| 发明（设计）人： | 渡边吉祥;关琢巳;直野秀昭;田口聪志 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;H01L21/324 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安,郑建晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能使非线性元件的非线性进一步提高的非线性元件的制造方法,电光学装置和电子仪器。在形成液晶装置的元件基板(20)时,在底层形成工序(a)中在元件基板(20)的表面上形成底层(61)后在第一金属膜形成工序(b)中形成由至少含Ta的金属膜构成的第一金属膜(62)。接着在绝缘膜形成工序(c)中对第一金属膜(62)在含水蒸气的氛围中进行高压退火处理,从而在第一金属膜(62)的表面上形成绝缘膜(63)。然后在第二金属膜形成工序中,在绝缘膜(63)的表面上形成第二金属膜,制造非线性元件。 | ||
| 搜索关键词： | 非线性 元件 光学 装置 及其 制造 方法 以及 电子仪器 | ||
【主权项】：
1、一种非线性元件的制造方法，该非线性元件是将第一金属膜，绝缘膜和第二金属膜按其顺序层叠而成的，其特征在于：进行形成上述第一金属膜的第一金属膜形成工序，形成上述第二金属膜的第二金属膜形成工序，在上述第一金属膜形成工序以后，直到进行上述第二金属膜形成工序的期间，在规定的氛围中进行在高压下退火的高压退火处理。
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