[发明专利]显象处理装置无效
| 申请号： | 02126281.0 | 申请日： | 2002-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1391128A | 公开（公告）日： | 2003-01-15 |
| 发明（设计）人： | 宫崎一仁;佐田彻也 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;B05B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 胡强,杨松龄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在水平方向敷设的输送通路上，一边输送被处理基片，一边快速高效地进行显象处理。在显象单元(DEV)94中，排成一列地连续设置多个形成沿加工作业线B的水平方向延伸的输送通路108的模块M1～M8。在模块M1～M8中，最上游的模块M1构成基片输入部110，后面的连续四个模块M2、M3、M4、M5构成显象部112，模块M6构成冲洗部114，模块M7构成干燥部116，最后的模块M8构成基片输出部118。在预淋湿部124、显象液供给部126和冲洗部114上分别设置使喷嘴喷口面对输送通路108并可沿输送通路108双向移动的预淋湿液供给喷嘴PN、显象液供给喷嘴DN及冲洗液供给喷嘴RN。 | ||
| 搜索关键词： | 显象 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种显象处理装置，它具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在上述输送通路上输送该基片而驱动上述输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在上述输送通路上的该基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使上述处理液供给机构的至少一个喷嘴沿上述输送通路移动的喷嘴扫描机构。
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