[实用新型]溅镀装置无效

专利信息
申请号: 02204370.5 申请日: 2002-02-01
公开(公告)号: CN2525101Y 公开(公告)日: 2002-12-11
发明(设计)人: 林祺芳;曾子峻 申请(专利权)人: 仕钦科技企业股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 任永武
地址: 台湾省台北县土*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种溅镀装置,包括一本体、一滑动件、一工作台、及至少一靶体,其特点是该本体形成有至少一密闭容置空间并设有连通于该容置空间的一抽气装置及固设于该本体的一致动装置;该滑动件连接于该致动装置,同时受其驱动而于该容置空间内滑动,并由该滑动轨迹界定一假想面;该工作台,具有一台面供固定置放待加工的工件,且沿与该假想面成一特定角度的一枢轴枢设于该滑动件上,而沿该枢轴相对于该滑动件转动;以及该至少一靶体,与该工作台的台面相隔一段距离地设置于该本体形成有该容置空间的一内侧壁内。本实用新型不需以往的准直管,便可解决工件表面凹穴因遮蔽效应所造成的填塞不良,进而提升阶梯覆盖率。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
1.一种溅镀装置,包括一本体、一滑动件、一工作台、及至少一靶体,其特征在于:该本体,形成有至少一密闭容置空间,且该本体设有连通于该容置空间的一抽气装置,及固设于该本体的一致动装置;该滑动件,连接于该致动装置,同时受其驱动而于该容置空间内滑动,并由该滑动轨迹界定一假想面;该工作台,具有一台面供固定置放待加工的工件,且沿与该假想面成一特定角度的一枢轴枢设于该滑动件上,而沿该枢轴相对于该滑动件转动;以及该至少一靶体,与该工作台的台面相隔一段距离地设置于该本体形成有该容置空间的一内侧壁内。
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