[其他]薄膜磁头及其制造方法在审
| 申请号： | 101987000000502 | 申请日： | 1987-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1004035B | 公开（公告）日： | 1989-04-26 |
| 发明（设计）人： | 今中律;高木政幸;户川卫星;藤治信;长池完训;大浦正树;铃木三郎;小林哲夫;锹俊一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 曹济洪;董江雄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种薄膜磁头，在其由第一和第二磁层构成的磁路中，带有两层导体层。该磁路在其与录制介质相对的一侧，有着第一和第二磁层在基本等于缝隙深度的长度上相互对应的部分，而非磁性缝隙层插入其间，另外还有着上述两磁层相互连接的前部。缝隙层的边缘构成了磁路的缝隙。如上配置的薄膜磁头可在不减少其生产量的情况下实现高密度录制。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 磁头 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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