[发明专利]制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法、由该方法获得的用于磁记录介质的玻璃基底、和使用该基底获得的磁记录介质无效
| 申请号： | 200580029014.5 | 申请日： | 2005-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101384517A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;C03C19/00;G11B5/73;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括使用磨料粒抛光结晶玻璃基底，然后使用有机羧酸水溶液洗涤该基底；由该方法制成的用于磁记录介质的玻璃基底；和使用该基底获得的磁记录介质。制造了用于磁记录介质的玻璃基底，其中表面粗糙度低、且表面缺陷对于结晶玻璃基底抛光后的洗涤而言为最低程度，且其中当在用于制造用于磁记录介质的磁记录介质基底上形成包括磁膜的记录层时，读写性能不会受到损害。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 记录 介质 玻璃 基底 方法 获得 使用 | ||
【主权项】：
1. 制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括使用磨料粒抛光结晶玻璃基底，然后使用有机羧酸水溶液洗涤该基底。
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