[发明专利]光记录介质及其制备方法无效
申请号: | 200580038391.5 | 申请日: | 2005-11-09 |
公开(公告)号: | CN101057282A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 玉木淳;江崎聪;栗和田健 | 申请(专利权)人: | 三菱化学媒体股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/257;G11B7/254;G11B7/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;李建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供光记录介质及其制造方法,所述光记录介质具有足够的防污性和粘合性,并且可以通过简便的工业上有利的方法获得。所述光记录介质包含:基材;形成于基材上的记录再现功能层;形成于记录再现功能层上的透光层和形成于透光层上的防污层。所述透光层通过将以下组合物经射线照射固化而形成,所述组合物含有二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物,并且所述组合物可经射线照射而固化。所述防污层含有具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或烷氧基硅烷化合物的水解产物。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光记录介质,该光记录介质包含:基材;形成于该基材上的记录再现功能层;通过固化下述组分A而在该记录再现功能层上形成的透光层;和形成于该透光层上的含有下述组分B的防污层,组分A:含有二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物的组合物,该组合物可以经射线照射而固化,组分B:具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷化合物的水解产物。
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