[发明专利]深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法

摘要

本发明涉及新型化学放大的光致抗蚀剂，其对300nm－100nm的波长敏感，并且包含：a)包含从聚合物骨架悬吊下的砜基团的新型聚合物，该聚合物不溶于碱性水溶液并且包含至少一个被酸不稳定基团保护的酸性结构部分，和b)在辐射下能够产生酸的化合物。本发明还涉及新型正性光致抗蚀剂组合物的成像方法。

主权项

1.光致抗蚀剂组合物，包含：光酸产生剂和包含至少一个由结构1描述的单元的聚合物，其中，A是非芳族聚合物骨架；W是单键或非芳族连接基；m＝0-10；R₄和R₅独立地是氢、(C₁-C₁₈)烷基、SO₂R₇、C(O)R₇、(CH₂)_nSO₂R₇、(CH₂)_nCOR₇、(CH₂)_nOR₇、CO₂(CH₂)_nCO₂R₇、O(CH₂)_nCO₂R₇、(CH₂)_nCO₂R₇、被酸不稳定基团保护的酸性结构部分，R₄和R₅连接起来形成未取代或取代的烷基环状结构，R₄和R₅连接起来形成未取代或取代的其内部包含砜、醚、羰基、羧基和其它杂性结构部分的烷基环状结构，其中R₇选自(CH₂)_nCN，氢，(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，和被酸不稳定基团保护的酸性结构部分；R₆独立地是(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，酸不稳定基团，(CH₂)_nSO₂R₇，(CH₂)_nCOR₇，(CH₂)_nOR₇，(CH₂)_nCO₂R₇，其中R₇选自(CH₂)_nCN，氢，(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，和酸不稳定基团；和，任选地，R₅和R₆连接起来形成未取代或取代的含砜基团的环状烷基单元；和n＝1-18。