[发明专利]转印方法，液体涂布装置无效
| 申请号： | 200580041891.4 | 申请日： | 2005-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101072690A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 小岛环生;布濑博树 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | B44C1/175 | 分类号： | B44C1/175;B05D3/00;B05C5/00;B05C11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据本发明，可以获得转印涂膜的粘着性及映射性高，不存在微小凸起不良，表面的断裂，图案的断开，变形等外观不良的涂膜。转印方法由以下工序而成，使转印膜(101)浮在转印槽(11)的水面上，在上述转印膜(101)涂布活化剂(14)，将被转印体(15)从转印膜(101)上面浸渍到转印槽，转印转印膜(101)，进而，用水洗去基材(102)之后，使转印了涂膜(105)的被转印体(15)干燥，硬化涂膜(105)的工序，在上述转印膜(101)涂布活化剂(14)活化的工序中，对包括多个喷嘴的喷嘴头(3)施加0.008MPa以上、0.040MPa以下的压力来喷出上述活化剂，并使上述喷嘴头(3)在转印膜(101)的上方移动。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 液体 装置 | ||
【主权项】：
1、一种转印方法，其特征在于，包括：使包括基材层与涂膜层的转印膜浮到转印槽的水面上膨润的工序；在上述转印膜上涂布活化剂活化的工序；将被转印体从转印膜的上面浸渍到转印槽中，转印转印膜的工序；用水洗去上述基材层的工序；使转印了上述涂膜的被转印体干燥的工序；以及硬化转印到被转印体的涂膜的工序；上述转印膜上涂布活化剂活化的工序包括：从包括多个喷嘴的喷嘴头喷出以0.008MPa以上、0.040MPa以下的压力压送来的上述活化剂，并使上述喷嘴头在转印膜上方移动，从而在上述转印膜上涂布活化剂的工序。
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