[发明专利]光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法有效
| 申请号： | 200580042542.4 | 申请日： | 2005-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101076759A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 泽田佳宏;胁屋和正;越山淳;宫本敦史;田岛秀和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种新颖的光蚀刻用清洗液，该清洗液对抗蚀图案而言，是为了减少制品的表面缺陷的所谓瑕疵、防止水冲洗时的图案破坏的发生、又赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐受性、抑制图案的收缩而使用的，且在储存中又不会发生因细菌造成的污染。该光蚀刻用清洗液，包括含有下述通式(式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R2及R3为碳数1～5的烷基或羟烷基)所示的含氧化胺化合物的水性溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 清洗 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光蚀刻用清洗液，其包含水性溶液，所述水性溶液含有至少一种下述通式所示的氧化胺化合物：[化学式1]![]()
式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R2及R3为碳原子数1～5的烷基或羟烷基。
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