[发明专利]显影废液的处理方法无效
| 申请号： | 200580047345.1 | 申请日： | 2005-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101111804A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 山下喜文;大城户始;野仲彻 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;C02F1/46;C02F1/02;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李炳爱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的显影废液的处理方法其特征在于测定包含氢氧化四烷基铵水溶液的显影废液中的四烷基铵(TAA)浓度和金属杂质的含量，根据测定的单位TAA的金属杂质的含量，选择精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，废弃处理上述显影废液的步骤，或者使用作为显影液未使用的氢氧化TAA水溶液进行稀释后，精制处理稀释的显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，各步骤选择的基准设定为单位TAA的金属杂质含量在50ppm。根据该方法，可以长期稳定地精制处理由光致抗蚀剂显影步骤排出的包含氢氧化TAA的显影废液，结果能再生在要求高精度的光致抗蚀剂显影步骤中也可作为显影液循环利用的高纯度的氢氧化TAA水溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 废液 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显影废液的处理方法，其特征在于其是从使用氢氧化四烷基铵水溶液作为显影液的光致抗蚀剂显影步骤回收的显影废液的处理方法，其中测定上述显影废液中四烷基铵浓度和金属杂质的含量，在各金属杂质的含量相对于四烷基铵均为50ppm以下时，精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液，在至少一种金属杂质含量相对于四烷基铵高于50ppm时，废弃处理上述显影废液，或者混合作为显影液未使用的氢氧化四烷基铵水溶液进行稀释，使显示大于50ppm值的金属杂质含量达到50ppm以下，精制处理稀释的显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液。
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