[发明专利]防护膜结构有效
| 申请号： | 200610061747.3 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101110276A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 陈杰良 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G12B17/08 | 分类号： | G12B17/08;H05K5/00;G12B9/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防护膜结构，其包括一底膜及一抵抗膜，所述底膜用于形成在一待保护基底表面，所述抵抗膜形成在该底膜表面。所述底膜的材料包括非晶体氮化硼或非晶体碳化硼。所述抵抗膜包括依次形成在底膜表面的一粘结层，一中间层及一披覆层。本发明的防护膜结构中，底膜材料选用非晶体氮化硼或非晶体碳化硼，其摩擦系数较小，用于电子产品的外壳时触感很好。形成在底膜表面的抵抗膜可有效抵制外部环境的作用而保护底膜，从而进一步保护电子产品的外壳。 | ||
| 搜索关键词： | 防护 膜结构 | ||
【主权项】：
1.一种防护膜结构，其特征在于，所述防护膜结构包括一底膜及一抵抗膜，所述底膜用于形成在一待保护基底表面，所述抵抗膜形成在该底膜的表面，该底膜的材料包括非晶体氮化硼或非晶体碳化硼，该抵抗膜包括依次形成在底膜表面的一粘结层，一中间层及一披覆层。
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