[发明专利]一种亚光熔块及其制造方法无效
申请号: | 200610074544.8 | 申请日: | 2006-04-27 |
公开(公告)号: | CN101062870A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 张平华 | 申请(专利权)人: | 霍镰泉 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86;C03C8/02 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 528219广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种亚光熔块,所述亚光熔块的化学组分为:SiO2 30~40%,ALO3 13~16%,CaO 6~8%,MgO 3~5%,K2O 0.7~1.5%,NaO2 3~4%,ZnO 2~5%,PbO 1~3%,BaO 6~8%,ZnO2 3~6%,B2O3 2~4%,Li2O 0.2~0.6%,废釉、刮边釉20~30%;所述球磨釉浆细度为0.2~0.5%(325目);本发明还公开了制造上述熔块的方法,其工艺流程如下:原料进厂→检验→按原料组分配比配料→熔制→水淬→检验→包装;所述熔制温度为1500~1600℃。本发明适用范围广、釉面细腻、不易产生色差,可降低成本30%左右。 | ||
搜索关键词: | 一种 亚光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种亚光熔块,其特征在于:所述亚光熔块各组分的重量百分比为:SiO2 30~40%,ALO3 13~16%,CaO 6~8%,MgO 3~5%,K2O 0.7~1.5%,NaO2 3~4%,ZnO 2~5%,PbO 1~3%,BaO 6~8%,ZnO2 3~6%,B2O3 2~4%,Li2O 0.2~0.6%,废釉、刮边釉10~30%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍镰泉,未经霍镰泉许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610074544.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种卫生间用换气扇
- 下一篇:电流驱动型电子断路保护装置