[发明专利]真空获得系统有效
申请号: | 200610112748.6 | 申请日: | 2006-08-31 |
公开(公告)号: | CN101136308A | 公开(公告)日: | 2008-03-05 |
发明(设计)人: | 南建辉;宋巧丽 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;G05B9/05;G05D16/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵镇勇;王连军 |
地址: | 100016北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种真空获得系统,包括分子泵,分子泵的入口通过入口阀与反应室连接,分子泵的出口通过排出阀与真空泵连接,还包括分子泵保护装置,根据检测到的报警信号,控制关闭分子泵的入口阀或排出阀;分子泵保护装置包括报警装置,用于检测分子泵入口压力、出口压力及系统中各设备工作情况,当压力超过设定值或设备工作异常时,由分子泵保护控制装置通过互锁电路控制关闭入口阀或排出阀,保护分子泵不受损坏;还包括互锁屏蔽电路,可使互锁电路失效,并由控制信号单独控制入口阀或排出阀。本发明涉及微电子领域,用于真空获得系统分子泵的安全运行保护措施。 | ||
搜索关键词: | 真空 获得 系统 | ||
【主权项】:
1.一种真空获得系统,包括反应室、分子泵和真空泵,所述分子泵的入口通过入口阀与反应室连接,所述分子泵的出口通过排出阀与真空泵连接,在所述排出阀和真空泵之间的出口管路与反应室之间连接有安装旁抽阀的旁抽管路,其特征在于,所述真空获得系统还包括分子泵保护装置,该分子泵保护装置根据对系统故障的检测而产生报警信号来控制关闭分子泵的入口阀和/或排出阀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610112748.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种实现高可用性的方法、系统和装置
- 下一篇:纸塑环保衣架及其制造工艺
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造