[发明专利]一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的方法无效

专利信息
申请号: 200610134135.2 申请日: 2006-11-03
公开(公告)号: CN101173881A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 谭军;张磊;张广平;谢天生 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32;G01N23/203;G01N13/10
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的方法,属于利用双束聚焦离子束系统加工表征界面从而实现背散射成像方法,采用双倾转样品台固定表征样品进行离子束制备表征界面和实现背散射成像。在聚焦离子束系统中将样品固定,需要制备表征的部位向侧面放置;利用二次电子成像对样品高度进行校准识别,聚焦样品上表面;打开离子束,进行双束对中处理,保持离子束加工位置和电子束观测位置的统一;采用离子束大束流预加工表征界面,采用小束流精加工制备完毕样品需表征界面;旋转副倾转台,离子束加工界面与入射电子束的垂直,启用背散射探测器实现背散射电子界面表征。本发明可以制备出符合扫描电镜需求的背散射表征样品。
搜索关键词: 一种 离子束 加工 样品 界面 实现 散射 表征 方法
【主权项】:
1.一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的方法,其特征在于采用聚焦离子束系统结合双倾转样品台和固定表征样品进行离子束制备表征界面,进而实现背散射成像,由以下步骤完成:1)在聚焦离子束系统中,将需要表征的样品固定在样品托上,样品托安装在聚焦离子束系统副倾转台上,需要制备表征的部位向侧面放置;2)利用二次电子成像对样品高度进行校准识别,将样品与二次电子探测器之间的工作距离调整为4.9~5.1mm,聚焦样品上表面;3)倾转聚焦离子束系统主倾转台至与水平方向成50~54度,同时打开离子束,进行双束对中处理,离子束极靴与样品对中距离为16.3~16.7mm;4)采用离子束大于3nA的大束流预加工表征界面,采用50PA~100PA的小束流精加工制备完毕样品需表征界面;5)旋转聚焦离子束系统主倾转台50~54度回到原始平衡位置,此时需背散射表征界面与电子束平行;6)旋转聚焦离子束系统副倾转台90度,实现离子束加工界面与入射电子束的垂直,启用背散射探测器实现背散射电子界面表征。
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