[发明专利]反射盖形成方法及其结构以及利用该反射盖的承载装置无效
| 申请号： | 200610141067.2 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101154698A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 张正兴;谢荣修;陈国湖;李敏丽 | 申请（专利权）人： | 鋐鑫电光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/48;H01L23/498;C04B41/88 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾省桃园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的发光二极管反射盖形成方法及其结构提供第一、二生坯结构该第一、二生坯结构并分别设有第一、二开孔图案，其第二开孔图案的开孔率小于第一开孔图案的开孔率，并将第二生坯结构设置于第一生坯结构上，使第一、二开孔图案呈上下重叠的位置关系，而第二生坯结构涂布有一金属层，最后再使第二生坯结构得以沿第一生坯结构的开孔图案而塑形并覆盖于第一生坯结构上，使金属层即为反射盖孔的孔壁。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 形成 方法 及其 结构 以及 利用 承载 装置 | ||
【主权项】：
1.一种发光二极管的反射盖的形成方法，包含：一第一生胚结构，其中该第一生胚结构具有一第一开孔图案；一第二生胚结构，该第二生胚结构具有一第二开孔图案，其第二开孔图案的开孔率小于第一开孔图案的开孔率，并设置于该第一生胚结构上，使第一、二开孔图案呈上下重叠的位置关系；一金属层于该第二生胚结构上；以使第二生胚结构得以沿第一生胚结构的开孔图案而塑形并覆盖于第一生胚结构上。
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