[发明专利]电子元件图纹缺陷的修补方法有效
申请号: | 200610143590.9 | 申请日: | 2006-11-09 |
公开(公告)号: | CN101178451A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 郑兆凯;黄介一;邱琬雯;林春宏;张加强 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B41J2/01;G03F1/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种电子元件图纹缺陷的修补方法包括提供基板具有图案化结构于其上,其中图案化结构具有至少一个缺陷,且图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域。施以第一表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质不同于主要区域。以喷墨法施以缺陷修补步骤以及施以第二表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质与主要区域的表面性质相同。 | ||
搜索关键词: | 电子元件 缺陷 修补 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电子元件图纹缺陷的修补方法,包括:提供基板具有图案化结构于其上,其中该图案化结构具有至少一个缺陷,且该图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域;施以第一表面处理步骤于该缺陷区域,使该缺陷区域的表面性质不同于该主要区域;施以缺陷修补步骤;以及施以第二表面处理步骤于该缺陷区域,使该缺陷区域的表面性质与该主要区域的表面性质相同。
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