[发明专利]用于化学气相沉积装置的保温器有效
申请号: | 200610148810.7 | 申请日: | 2006-12-28 |
公开(公告)号: | CN101210315A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 任瑞龙;何华忠;俞小丰;刘培芳 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用于化学气相沉积装置的保温器,所述保温器包括保温片和连接柱,所述保温片包括第一保温片、第二保温片......以及第n保温片,所述n为自然数,所述第一保温片、第二保温片......第n保温片呈相同的规则形状,依次沿垂直于保温片的中心轴向排列,相邻保温片之间具有一定间隔,并且相邻保温片通过连接柱相连接,围绕第一保温片边缘设置有定位突起。本发明还提供另一种保温器结构,在第一保温片上通过定位突起定位放置有碳化硅片。本发明通过把碳化硅片固定与第一保温片上,由于碳化硅片与薄膜的结合力较强,累积厚度达到12.5μm也不容易脱落,不会对晶圆造成污染,同时把累计沉积薄膜的厚度延长至12.5μm,简化了工艺。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 装置 保温 | ||
【主权项】:
1.一种用于化学气相沉积装置的保温器,所述保温器包括保温片和连接柱,所述保温片包括第一保温片、第二保温片......以及第n保温片,所述n为自然数,所述第一保温片为顶端保温片,所述第一保温片、第二保温片......第n保温片沿垂直于保温片表面方向堆叠排列,相邻保温片之间具有间隔,并且相邻保温片通过连接柱相连接,其特征在于,围绕第一保温片边缘设置有定位突起。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的