[发明专利]一种质谱质量测量误差的预测方法有效
申请号: | 200610164852.X | 申请日: | 2006-12-06 |
公开(公告)号: | CN101196498A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 高文;张京芬;贺思敏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院计算技术研究所 |
主分类号: | G01N30/72 | 分类号: | G01N30/72 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种质谱质量测量误差的预测方法,包括如下步骤:步骤一,将物质的测量误差分解为系统误差与随机误差;步骤二,在质谱中计算样本点的测量误差,样本点包括质谱中的离子、离子之和或者离子之差;步骤三,使随机误差的目标函数取最值来确定系统误差分布函数的参数取值。所述在质谱中计算样本点的测量误差是通过预测离子分子式的方法获得。本发明的优点是:不需要额外的内标或外标参考,不需要进行预先的鉴定;既可以预测单个质谱的误差情况,也可以预测整个样品的所有质谱的误差分布情况;预测准确度高。 | ||
搜索关键词: | 种质 质量 测量误差 预测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种质谱质量测量误差的预测方法,包括如下步骤:步骤1)设置含有待定参数的测量系统误差分布函数;步骤2)计算物质的测量质量值和理论质量值,并计算这些物质的测量实际误差;步骤3)得到的物质测量实际误差减去所述的含参数的测量系统误差,得到物质的含参数的测量随机误差;步骤4)计算所述含参数的测量随机误差的目标函数,通过使该目标函数取得最值而得到所述测量系统误差分布函数中待定参数的取值。
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