[实用新型]光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置无效
申请号: | 200620161666.6 | 申请日: | 2006-12-27 |
公开(公告)号: | CN200992589Y | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 钟毅;钟鸣 | 申请(专利权)人: | 钟毅 |
主分类号: | C30B7/00 | 分类号: | C30B7/00 |
代理公司: | 济南圣达专利商标事务所 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 250021山东省济南市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置。它解决了目前人工晶体的生成装置温度控制精度低,含氘量易受影响等问题,具有结构简单,使用方便,能有效保证晶体生成所需的氘量,并能提高温控精度等优点。其结构为:它有外壳,其内设有晶体生成容器,所述晶体生成容器为透明容器,在其外壁上布满反射层,在透明容器底部设有光加热装置,该装置与温度控制装置连接。 | ||
搜索关键词: | 光浴法 培育 质量 高氘量 dkdp 晶体 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,它有外壳(1),其内设有晶体生成容器,其特征是:所述晶体生成容器为透明容器(2),在其外壁上设有反射层(3),其底部则设有光加热装置,该装置与温度控制装置连接。
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