[实用新型]蚀刻机无效
| 申请号： | 200620162314.2 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN201022072Y | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 张韬;杨佐东;熊丹;邹锦宇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;C23C4/00;C23C4/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种蚀刻机。本实用新型蚀刻机包括蚀刻机内用来进行刻蚀晶圆的腔体和位于该腔体内壁上用来阻挡等离子气体的隔离门以及连接隔离门并控制隔离门开关的隔离门控制装置，该隔离门控制装置包括：气缸，连通隔离门，用于开启及关闭隔离门；进气管道，连通气缸上的进气口，用于向气缸输入气体控制气缸开启隔离门；出气管道，连通气缸上的出气口，用于从气缸抽取气体控制气缸关闭隔离门；进气管道和出气管道上的可调节装置，用于分别控制进气管道和出气管道内的气体流量。本实用新型蚀刻机能够通过隔离门控制装置以较高精度控制蚀刻机腔体内隔离门的开关速度，提高了腔体的使用寿命，并且解决了更换蚀刻机内气缸引起的开支巨大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻机，包括蚀刻机内用来进行刻蚀晶圆的腔体和位于该腔体内壁上用来阻挡等离子气体的隔离门以及连接隔离门并控制隔离门开启和关闭的隔离门控制装置，其特征在于，所述隔离门控制装置包括，气缸，连通隔离门，用于开启及关闭隔离门；进气管道，连通气缸上的进气口，用于向气缸输入气体控制气缸开启隔离门；出气管道，连通气缸上的出气口，用于从气缸抽取气体控制气缸关闭隔离门；进气管道和出气管道上的可调节装置，用于分别控制进气管道和出气管道内的气体流量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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