[发明专利]扫描电子束照射装置有效

专利信息
申请号: 200680001306.2 申请日: 2006-01-20
公开(公告)号: CN101080801A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 今井大辅 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: H01J37/04 分类号: H01J37/04;H01J37/20;H01J37/22
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供一种扫描电子束照射装置,能够自动地校正扫描信号的视野偏移。本发明的扫描电子束照射装置(1),具备:于二次元方向可移动的平台(3)、照射扫描电子束至试料的电子束源(2)、设置于试料的标记、检测出扫描电子束的照射位置而来的荷电粒子等的检测机构(4)、根据此检测机构而来的检测信号,形成扫描图像的图像形成机构(5)、检测出此图像形成机构所形成的扫描图像中的标记位置的位置偏移,并算出位置偏移校正系数,控制电子束源及平台的驱动的控制机构(7、8、9)。藉由采用具有多个电子束源的装置,可以校正电子束源间的相对的位置关系。
搜索关键词: 扫描 电子束 照射 装置
【主权项】:
1、一种扫描电子束照射装置,其特征在于包括:平台,支持着试料并至少于二次元方向可移动;电子束源,照射扫描电子束至前述试料;标记,设置于前述试料;检测机构,检测出前述扫描电子束的照射位置;图像形成机构,根据前述检测机构而来的检测信号,形成扫描图像;以及控制机构,检测出前述图像形成机构所形成的扫描图像与前述标记的位置偏移,并算出位置偏移校正系数,根据该位置偏移校正系数,控制前述电子束源及平台的驱动。
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