[发明专利]浸没液体、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200680004444.6 | 申请日： | 2006-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101128775A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·詹森;马克·凯尔特·斯坦温哥;杰克布思·约翰纳思·利昂纳得斯·亨朱克思·沃斯贝;弗朗西斯克思·约翰内思·圣约瑟·詹森;安东尼·奎吉普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 液体 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置制造方法，包括：(i)将一成分加入液体，所述成分具有大于0.1kPa的蒸汽压力；(ii)使感光衬底暴露于辐射线，其中：在到达所述感光衬底前，所述辐射线已穿过包括所述成分的所述水成液；其中：所述成分的所述加入步骤增加了所述液体中的离子浓度。
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