[发明专利]用于制造多层体的方法及多层体有效

专利信息
申请号: 200680006666.1 申请日: 2006-02-09
公开(公告)号: CN101166633A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: R·施陶布;W·R·特普金;A·席林 申请(专利权)人: OVD基尼格拉姆股份公司
主分类号: B42D15/10 分类号: B42D15/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 谢志刚
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及用于制造多层体(100)的方法,所述多层体(100)具有部分成形的第一层(3m)。其中设定,在所述方法中,将具有各个结构元件的大的深度-宽度比尤其是深度-宽度比>0.3的第一凸纹结构成形到多层体(100)的复制层(3)的第一区域(5)中,并将第一层(3m)以恒定的表面密度涂布到复制层(3)上第一区域(5)和第二区域(4,6)中,在第二区域中第一凸纹结构不成形到复制层(3)中,并且根据第一凸纹结构部分去除第一层(3m),以便第一层(3m)在第一区域(5)中去除但在第二区域(4、6)不去除,或在第二区域(4、6)中部分去除但在第一区域(5)中不去除。
搜索关键词: 用于 制造 多层 方法
【主权项】:
1.一种用于制造多层体(100,100′)的方法,所述多层体(100,100′)具有部分成形的第一层(3m),其特征在于,在该方法中,在多层体(100,100′)的复制层(3)的第一区域(5)中成形一衍射第一凸纹结构,所述第一凸纹结构的各个结构元件的深度-宽度比>0.3,并将第一层(3m)以相对于复制层(3)所限定的平面的恒定的表面密度涂布到复制层(3)上第一区域(5)和第二区域(4,6)中,在第二区域中第一凸纹结构不在复制层(3)中成形,且第一层(3m)通过第一凸纹结构确定地部分地去除,以便第一层(3m)在第一区域(5)中去除,而在第二区域(4,6)中不去除或者在第二区域(4,6)中去除而在第一区域(5)中不去除。
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