[发明专利]用于厚电介质电致发光显示器的含有氧化镁的阻挡层有效
| 申请号： | 200680012420.5 | 申请日： | 2006-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN101218855A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 吉田功;浜田弘喜;乔·阿基奥内;辛永保;于三 | 申请（专利权）人： | 伊菲雷知识产权公司;三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/12 | 分类号： | H05B33/12;H05B33/14;H05B33/22;H05B33/10;H01L33/00;H01L49/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 穆德骏;黄启行 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | 提供一种新型层压制品，以提高用于交流厚膜电介质电致发光显示器的基于硫代铝酸盐的荧光材料的运行稳定性。此新型结构包括稀土激活的碱土硫代铝酸盐荧光体薄膜层和直接与荧光体薄膜层底部相邻并接触的氧化镁层或含有氧化镁的层。本发明特别适用于电致发光显示器用的荧光体，该电致发光显示器采用的厚膜电介质层经工艺中的高温形成并激活荧光体膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电介质 电致发光 显示器 含有 氧化镁 阻挡 | ||
【主权项】：
1.一种用于厚电介质膜电致发光装置的荧光体层压制品，所述层压制品包括：-稀土激活的碱土硫代铝酸盐荧光体薄膜层；-氧化镁层或含有氧化镁的层，其布置为直接邻近所述荧光体薄膜层的底部并与该底部接触；以及-厚膜电介质层，邻近所述氧化镁层或含有氧化镁的层。
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