[发明专利]分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具有效
| 申请号： | 200680013218.4 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101163959A | 公开（公告）日： | 2008-04-16 |
| 发明（设计）人： | 藤原稔典;丹治秀树;宇佐川顺之 | 申请（专利权）人： | 爱科来株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/78 | 分类号： | G01N21/78 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种分析装置(1)，其具备用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构(6)，和具有用于载置分析用具的载置部(41)的载置台(4)。该分析装置构成为：清洁用具(22)载置在载置台(4)上，对测光机构(6)中的来自发光元件(66)的光的出射面(68)或入射面(68)进行清洁。本发明还涉及用于对分析装置(1)的测光机构(6)进行清洁的清洁用具(22)。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 中的 测光 机构 清洁 方法 用具 | ||
【主权项】：
1.一种分析装置，其特征在于，具备：用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，该分析装置以下述方式构成：在所述载置台上载置清洁用具，在由所述清洁用具的按压部按压所述测光机构中的光的出射面或入射面的状态下，对所述出射面或所述入射面进行清洁。
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