[发明专利]新型有机化合物及利用该化合物的放射性卤素标记有机化合物的制造方法有效
| 申请号： | 200680017927.X | 申请日： | 2006-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101180272A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 外山正人;黑崎文枝;林明希男;伊藤修 | 申请（专利权）人： | 日本医事物理股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D209/48 | 分类号： | C07D209/48;A61K51/00;C07D207/404 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于选择性制造被放射性卤素取代的顺式－1－氨基－3－环丁烷羧酸的标记前体化合物及使用该标记前体化合物的被放射性卤素取代的顺式－1－氨基－3－环丁烷羧酸的制造方法。标记前体中使用邻苯二甲酰亚胺基作为氨基的保护基。通过利用放射性卤素标记该标记前体，再进行脱保护，从而可以选择性制造被顺式的被放射性卤素取代的1－氨基－3－环丁烷羧酸。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 有机化合物 利用 化合物 放射性 卤素 标记 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.下述式(1)所示的有机化合物，![]()
式中，R1为直链或支链的碳数1～10的烷基或芳香族取代基，R2为直链或支链的碳数1～10的卤代烷基磺酸取代基、直链或支链的碳数1～10的烷基磺酸取代基或芳香族磺酸取代基，R3为环状酰亚胺取代基。
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