[发明专利]光刻用清洗液无效
| 申请号： | 200680018671.4 | 申请日： | 2006-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN101185033A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 中山一彦;秀坂慎一 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;C11D7/26;C11D7/60;H01L21/027;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻用清洗液，其用于通过光刻技术制造抗蚀图案时，将设置于基板上的抗蚀膜的不需要部分或残留于光致抗蚀剂供应装置中的光致抗蚀剂洗净并去除。作为该清洗液，要求其使用可将不需要的抗蚀剂完全溶解去除后能够迅速干燥的溶剂，并对处理后的抗蚀膜不会产生不良影响，故其成分取决于所使用的抗蚀剂的种类。但是，目前为止尚未知晓对于以丙烯酸系聚合物作为成分的ArF准分子激光用光致抗蚀剂有效的清洗液。本发明提供一种光刻用清洗液，其包含单独的烷氧基羧酸烷基酯，或其与烷氧基苯的混合溶剂，该清洗液可有效去除ArF准分子激光用光致抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种光刻用清洗液，其包含单独的烷氧基羧酸烷基酯，或烷氧基羧酸烷基酯与烷氧基苯的混合溶剂。
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