[发明专利]基板制造方法和曝光装置

摘要

在基板上形成结构部件的曝光处理中，正确地控制曝光位置。在曝光装置31的台架22上设置基板，基于在台架22上定义的虚坐标系，在基板的角部的上方配置低倍率照相机27并进行摄影，识别以位置确定目的而设置的标记。接着，基于标记已经被识别的位置，定义沿着基板的实际的位置状态下的基本坐标系。然后，算出规定基准点的基本坐标系中的坐标，在该坐标表示的位置上配置高倍率照相机28并进行摄影，识别在前工序中在基板上形成的结构部件的图案。从识别的图案中确定基准点的实际的位置，与利用其实际的基准点确定的区域的形状吻合一致，补正该区域中曝光记录的图像，然后进行图像的曝光记录。

主权项

1.一种基板制造方法，是用于制造包括规定结构部件的基板的方法，其特征在于，在用于形成至少一种结构部件的工序中，将形成有利用低倍率摄影可识别的第一图案和仅仅利用高倍率摄影可识别的第二图案的基板设置在定义了虚坐标系的平面上；在基于所述虚坐标系设定的规定位置以低倍率对前述基板进行摄影；从通过该摄影得到的低倍率摄影图像中识别所述第一图案；基于该第一图案已经被识别的位置来在所述平面上定义基本坐标系；计算出基于虚坐标系设定的多个基准点的、在前述基本坐标系中的位置坐标；在算出的位置坐标表示的位置上以高倍率对所述基板进行摄影；通过从由该摄影得到的高倍率摄影图像中识别所述第二图案的形状和/或颜色，确定所述基准点的所述基板上的实际位置；基于通过上述识别确定的位置的信息，将表示所述结构部件的图案的图像即在由所述多个基准点确定的区域中记录的区域图像进行补正；基于构成补正的区域图像的各像素的值，通过控制用于扫描基板的光束打开/关断，来在所述基板上记录图像；以及通过将所述基板加工成记录的图像形状，在该基板上形成所述结构部件。