[发明专利]扁立缠绕线圈有效

专利信息
申请号: 200680026946.9 申请日: 2006-07-11
公开(公告)号: CN101228599A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 村上隆夫 申请(专利权)人: 新确有限公司
主分类号: H01F27/28 分类号: H01F27/28
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;陈海红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 扁立缠绕线圈(10),是将剖面形状为一对长边(11、12)和一对短边(13、14)所勾画的异形导线(10’),一边以第一短边(13)作为弯曲支点进行弯曲加工一边层叠为多层状而得到的俯视为矩形的扁立缠绕线圈;其中,在弯曲加工前状态下纵剖面观察,所述一对长边(11、12)具有:从第二短边(14)的两端部相互大致平行地延伸的一对直线区域(11a、12a),和在该一对的直线区域(11a、12a)与第一短边(13)之间延伸的一对斜线区域(11b、12b),该一对斜线区域(11b、12b),在弯曲加工前状态下纵剖面观察,随着接近第一短边(13)而相互靠近。
搜索关键词: 缠绕 线圈
【主权项】:
1.一种扁立缠绕线圈,是将剖面形状为一对第一以及第二长边和一对第一以及第二短边所勾画出的异形状的异形导线,一边以所述第一短边作为弯曲支点进行弯曲加工一边层叠为多层状而得到的俯视为矩形的扁立缠绕线圈,其特征在于,在进行所述弯曲加工前的弯曲加工前状态下纵剖面观察,所述一对长边具有:从所述第二短边的两端部相互大致平行地延伸的一对直线区域、和在该一对直线区域与所述第一短边之间延伸的一对斜线区域;所述一对斜线区域,在所述弯曲加工前状态下纵剖面观察,随着接近所述第一短边而相互靠近。
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