[发明专利]沉积耐刮擦膜的方法无效
| 申请号： | 200680028314.6 | 申请日： | 2006-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN101233259A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | N·纳多;A·哈尔琴科 | 申请（专利权）人： | 法国圣－戈班玻璃公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/06;C03C17/36;C03C17/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 用于在基板上真空沉积至少一个硼基薄膜的方法，其特征在于：选择至少一种相对于硼化学惰性或活泼的溅射物种；使用位于工业级装置内的至少一个线性离子源产生主要包含所述溅射物种的准直离子束；将所述束导向至少一个硼基靶之上；并且－将面向所述靶的所述基板的至少一个表面部分布置为使被靶的离子轰炸而溅射的材料、或源自所述溅射材料与至少一种溅射物种的反应而得到的材料沉积在所述表面部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 耐刮擦膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在基板上真空沉积至少一个硼基薄膜的方法，其特征在于：—选择至少一种相对于硼化学惰性或活泼的溅射物种；—使用位于工业级装置内的至少一个线性离子源产生主要包含所述溅射物种的准直离子束；—将所述束导向至少一个硼基靶之上；并且—将面向所述靶的所述基板的至少一个表面部分布置为使被靶的离子轰炸而溅射的所述材料，或源自所述溅射材料与至少一种溅射物种的反应而得到的材料沉积在所述表面部分上。
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