[发明专利]便携式模具清洗设备及其方法无效
| 申请号： | 200680032325.1 | 申请日： | 2006-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101258579A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 李海龙;李近浩;金德宰;吴正根;金道现 | 申请（专利权）人： | PSM有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种便携式模具清洗设备和使用所述便携式模具清洗设备的模具清洗方法。本发明的目的是提供一种便携式模具清洗设备，其能够在不分离模具的情况下，通过使用所述在模具上界定的反应室中产生的等离子体放电，来对所述模具的表面，尤其是所述模具中的空腔的表面执行等离子体清洗工艺。本发明的所述便携式模具清洗设备包括：框架，其具有开口的下面，以在所述框架被固定在所述模具上时，在所述模具的表面与所述框架本身之间界定一种面向所述模具的所述表面的反应室；以及有源电极，其在所述模具电接地的状态下被放置在与所述模具相对的位置处，并从外部电源接收电功率，以在所述反应室中产生等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 便携式 模具 清洗 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于使用等离子体放电来清洗模具的表面的便携式模具清洗设备，其特征在于其包括：框架，其具有开口的下面，以在所述框架被固定在所述模具上时，在所述模具的所述表面与所述框架本身之间界定面向所述模具的所述表面的反应室；以及有源电极，其在所述模具电接地的状态下，被放置在与所述模具相对的位置处，所述有源电极从外部电源接收电功率，以在所述反应室中产生等离子体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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