[发明专利]沉积方法无效
申请号: | 200680032765.7 | 申请日: | 2006-09-11 |
公开(公告)号: | CN101384748A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 叶亮 | 申请(专利权)人: | 皮尔金顿集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C30/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 英国默*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 使用化学气相沉积方法在浮法玻璃生产过程中将氧化锌镀膜沉积到连续玻璃带的表面,其中的气相包括二烷基锌前体和至少一种含氧有机化合物,该含氧有机化合物优选为乙酸乙酯。可以通过引入例如像氟或铝的掺杂物来提高该镀膜的导电性。该镀覆玻璃能够用于阳光控制和低辐射玻璃制品中。 | ||
搜索关键词: | 沉积 方法 | ||
【主权项】:
1、在浮法玻璃生产过程中将包含氧化锌的镀膜沉积到连续玻璃带的表面上的方法,其包括形成包含具有通式R2Zn、且其中R表示包含1到4个碳原子的烷基的二烷基锌化合物和含氧有机化合物的流体混合物,在玻璃的温度处于500℃到700℃的范围内时使所述的混合物与玻璃带的表面相接触。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的