[发明专利]形状记忆装置有效
申请号: | 200680035573.1 | 申请日: | 2006-09-27 |
公开(公告)号: | CN101273456A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 桑迪普·蒂瓦里;金桢雨 | 申请(专利权)人: | 康奈尔研究基金公司;三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8246;H01L41/00;B81B3/00;H01L27/12;G11C13/02;H01L21/336;H01L27/06;G11C11/00;H01L29/788;H01L27/10;G11C23/00;H01L21/8247;H0 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 黄启行;穆德骏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 具有双稳态位置的纳米机械装置,用于形成开关和存储器装置。所述装置可驱动至不同的位置,可连接到不同配置中的晶体管装置,以提供存储器装置。驱动机制包括静电方法和加热。在一个形式中,所述机械装置形成场效应晶体管的栅极,参见图2A。在另一形式中,所述装置可以是开关,开关可以不同的方式连接晶体管,当导通和断开时影响其电子特性。在一个实施例中,所述存储器开关包括用可拉长的或可压缩的膜形成,参见图5B。交叉点开关由多个交叉的导电的导体的列和行形成,参见图11A。可驱动开关位于列和行的各个交叉点之间,使得各个交叉点可单独地访问。基于侧壁的开关可连接晶体管的浮栅(823),参见图8B。 | ||
搜索关键词: | 形状 记忆 装置 | ||
【主权项】:
1.一种存储器装置,包括:晶体管,具有栅极、漏极和源极;以及双稳态纳米尺度结构,连接至所述晶体管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的