[发明专利]形状记忆装置有效

专利信息
申请号: 200680035573.1 申请日: 2006-09-27
公开(公告)号: CN101273456A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 桑迪普·蒂瓦里;金桢雨 申请(专利权)人: 康奈尔研究基金公司;三星电子株式会社
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8246;H01L41/00;B81B3/00;H01L27/12;G11C13/02;H01L21/336;H01L27/06;G11C11/00;H01L29/788;H01L27/10;G11C23/00;H01L21/8247;H0
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 黄启行;穆德骏
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 具有双稳态位置的纳米机械装置,用于形成开关和存储器装置。所述装置可驱动至不同的位置,可连接到不同配置中的晶体管装置,以提供存储器装置。驱动机制包括静电方法和加热。在一个形式中,所述机械装置形成场效应晶体管的栅极,参见图2A。在另一形式中,所述装置可以是开关,开关可以不同的方式连接晶体管,当导通和断开时影响其电子特性。在一个实施例中,所述存储器开关包括用可拉长的或可压缩的膜形成,参见图5B。交叉点开关由多个交叉的导电的导体的列和行形成,参见图11A。可驱动开关位于列和行的各个交叉点之间,使得各个交叉点可单独地访问。基于侧壁的开关可连接晶体管的浮栅(823),参见图8B。
搜索关键词: 形状 记忆 装置
【主权项】:
1.一种存储器装置,包括:晶体管,具有栅极、漏极和源极;以及双稳态纳米尺度结构,连接至所述晶体管。
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