[发明专利]制造磁记录介质的方法、磁记录介质及磁读/写装置无效
| 申请号： | 200680039768.3 | 申请日： | 2006-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101297358A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 坂胁彰 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/70;G11B5/73;G11B5/82 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种制造方法，其能够容易地且廉价地制造离散磁道型磁记录介质。一种制造具有主表面的磁记录介质的方法，在该主表面上按基本上同心的排列来设置磁道4，且在该主表面上形成用于将径向相邻的磁道4相互磁性分离的沟槽5，该方法的特征在于：在平坦的基底1上形成至少磁记录层2以制造工件1a，然后将具有与沟槽5对应的突起的压模压在工件的主表面上，以便将突起的形状转移到工件并在磁道4之间形成沟槽5。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 记录 介质 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种制造具有主表面的磁记录介质的方法，在所述主表面上按基本上同心的排列来设置磁道，且在所述主表面上形成用于将径向相邻的磁道相互磁性分离的沟槽，所述方法的特征在于，在平坦的基底上形成至少磁记录层以制造工件，然后将具有与所述沟槽对应的突起的压模压在所述工件的主表面上，以便将所述突起的形状转移到所述工件并在所述磁道之间形成沟槽。
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