[发明专利]具有改进的耐化学性的多层可成像元件无效
| 申请号： | 200680040558.6 | 申请日： | 2006-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN101300139A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | K·B·雷;E·L·谢里夫;J·雷;A·克雷布斯 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41M5/36 | 分类号： | B41M5/36;B41C1/10;H05K3/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵苏林;林森 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种正性工作的可成像元素，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面且在其上具有内层和外层的基板。内层含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合物中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)，其中R1，R2，R3和R4独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20。该可成像元件具有改进的对显影和印刷用化学品和溶剂的耐性。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 化学性 多层 成像 元件 | ||
【主权项】：
1.一种正性工作的可成像元件，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面的基板，并且在该基板上依次包括：内层，其含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合材料中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)其中R1，R2，R3和R4独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20，以及吸油墨的外层，该层基本不含所述吸收辐射的化合物且在热成像前不会被碱性显影剂除去，条件是在热成像后，所述元件的成像区域可由碱性显影剂去除。
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