[发明专利]减反射光学膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680049799.7 申请日: 2006-12-20
公开(公告)号: CN101351332A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 穗积康弘;永吉邦光;金子胜一;高桥岩 申请(专利权)人: 日本化药株式会社
主分类号: B32B27/00 分类号: B32B27/00;B32B7/02;C08J7/04;G02B1/11;G02B5/22
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 王海川;樊卫民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种减反射光学膜,其可以通过将包含不具有含氟有机取代基的硅氧烷树脂材料(烷氧基硅烷化合物的低聚物、氨基硅烷偶联剂及硅氧烷接枝丙烯酸聚合物)的热固化性低折射率涂层剂涂布于透明基材膜上,并在干燥机内连续进行干燥与热固化来制造,其不会因卷紧而发生品质劣变,具有优良的减反射性、防污性、耐化学药品性、耐擦伤性等,并且可以高效制造,价格低廉。该减反射光学膜具备具有近红外光吸收功能及氖光吸收功能的层,因此适合作为PDP用光学膜。
搜索关键词: 反射 光学 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种减反射光学膜,其中,在透明基材膜上具有低折射率层,该低折射率层通过含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物的涂层的固化而得到。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本化药株式会社,未经日本化药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680049799.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top