[发明专利]转印自组装的虚拟图案至基板的方法无效
| 申请号： | 200710005226.0 | 申请日： | 2007-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101187776A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 文载寅 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;G03F7/00;G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明揭示一种转印自组装的虚拟图案至基板的方法。该方法包含：得到初始电路布图的逆布图；缩小该逆布图尺寸，由此得到缩小布图；得到虚拟图案布图，其具有与该缩小布图的外形相同的外形并具有给定线宽，使得该虚拟图案布图自组装至该电路布图；以及转印该自对准或自组装虚拟图案布图与电路布图至半导体基板。 | ||
| 搜索关键词： | 组装 虚拟 图案 至基板 方法 | ||
【主权项】：
1.一种转印图案至基板的方法，包含：设计将被转印至所述基板的电路布图；得到所述电路布图的逆布图；缩小所述逆布图的尺寸，由此得到缩小布图；得到虚拟图案布图，其中所述虚拟图案布图具有对应于所述缩小布图外形的外形并具有给定线宽使得所述虚拟图案布图自组装至所述电路布图；以及组合所述虚拟图案布图与所述电路布图。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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