[发明专利]一种高磷Ni-P-SiC复合镀层及其制备工艺无效
申请号: | 200710015538.X | 申请日: | 2007-05-17 |
公开(公告)号: | CN101050525A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 张树生;程林;韩克江 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C23C18/50 | 分类号: | C23C18/50 |
代理公司: | 济南圣达专利商标事务所 | 代理人: | 李健康 |
地址: | 250061山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种高磷Ni-P-SiC复合镀层的制备工艺,特别适用于制备耐磨镀层和耐腐蚀镀层。Ni-P-SiC化学复合镀层,在保持了Ni-P非晶态化学镀层所具有的良好耐腐蚀及其它优良特性基础上,因添加SiC微粒后镀层硬度和耐磨性能均有了进一步的提高,能够很好的提高机械零件的耐磨性,延长其使用寿命。本镀液具有溶液稳定、镀浴温度高、沉积速度快、易于控制的优点。本发明所得到的高磷Ni-P-SiC化学复合镀层与基体结合力较好,同时具备优良的耐磨性能和耐腐蚀性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 ni sic 复合 镀层 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种高磷Ni-P-SiC化学复合镀层,其特征在于该镀层的化学组成和配比分别为:主盐NiSO4·6H2O 20~30g/L还原剂NaH2PO2·H2O 20~40g/L主络合剂乳酸 10~25g/L辅助络合剂甘氨酸 5~15g/L辅助络合剂EDTA 5~15g/L辅助络合剂柠檬酸 2~10g/L加速剂丁二酸 5~15g/L缓冲剂乙酸钠 10~20g/L稳定剂碘酸钾 0.03g/L表面活性剂十二烷基苯磺酸钠 0~120mg/L碳化硅 0~12g/L。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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