[发明专利]利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法

摘要

本发明公开了一种利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法，是按摩尔比2.8－5.8∶1∶0.8－2.7的量将SiCl₄、NaN₃和镁粉混合，或以铁粉为还原剂按摩尔比5.8－6.0∶1∶0.58－0.60的量将SiCl₄、NaN₃和铁粉混合，密封在高压釜中，于200℃－300℃反应10小时±0.5小时；产物经酸洗、水洗、离心分离和干燥，获得氮化硅一维纳米材料。本发明方法制得的β－Si₃N₄纳米棒直径约为100纳米～800纳米，纳米线的直径为30纳米－125纳米；α－Si₃N₄纳米线的直径为50纳米－165纳米。本发明方法反应温度较低，所得产物形貌好，适合于工业化大规模生产。

主权项

1.一种利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法，其特征在于，按摩尔比2.8-5.8∶1∶0.8-2.7的量将SiCl4、NaN3和镁粉混合，或以铁粉为还原剂按摩尔比5.8-6.0∶1∶0.58-0.60的量将SiCl4、NaN3和铁粉混合，密封在高压釜中，于200℃-300℃反应10小时±0.5小时；产物经酸洗、水洗、离心分离和干燥，即获得以β-Si3N4为主的一维氮化硅纳米材料。