[发明专利]低温高硅炻瓷及其制作工艺无效
申请号: | 200710035134.7 | 申请日: | 2007-06-14 |
公开(公告)号: | CN101066862A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 曾友强 | 申请(专利权)人: | 湖南华联溢百利瓷业有限公司 |
主分类号: | C04B35/14 | 分类号: | C04B35/14;C04B35/64;C04B35/63;C04B35/80 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 412200湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 低温高硅炻瓷及其制作工艺,针对传统高硅炻瓷的膨胀系数与一些特殊艺术釉不匹配的问题,在保证其理化性能的前提下,在坯体中引入大量的不同颗粒级别的石英,增大坯体的膨胀系数。在原炻瓷组成的基础上,加入不同颗粒级别的石英,主要示性矿物组成为长石、高岭土、石英和白云石,且各组成的配比如下:钠长石15~35%;高岭土25~40%;石英35~50%;白云石1~5%。采用普通炻瓷烧制工艺,其特征在于:烧成温度范围为1175~1225℃,吸水率控制在1~4%之间。 | ||
搜索关键词: | 低温 高硅炻瓷 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】:
1、低温高硅炻瓷,其特征在于:在保证其理化性能的前提下,在坯体中引入大量的不同颗粒级别的石英,增大坯体的膨胀系数;主要示性矿物组成为长石、高岭土、石英和白云石,且各组成的配比如下:钠长石15~35%;高岭土25~40%;石英35~50%;白云石1~5%。
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