[发明专利]研磨垫的清洗方法无效
| 申请号： | 200710043864.1 | 申请日： | 2007-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101347922A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 冯永刚;张复雄;虞肖鹏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00;B24B55/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种研磨垫的清洗方法，涉及半导体制造领域的研磨工艺。该清洗方法使用高于常温的去离子水对研磨垫的研磨表面进行清洗，去除研磨表面的残留杂质。所述研磨表面是平滑的。相较现有技术的清洗方法，本发明的清洗方法更有效地去除结块等残留物，避免了在后续工序中对晶圆的被研磨表面造成刮伤。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫的清洗方法，其特征在于：使用高于常温的去离子水对研磨垫的研磨表面进行清洗，去除研磨表面的残留杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710043864.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
