[发明专利]一种光刻胶清洗剂无效
| 申请号： | 200710044790.3 | 申请日： | 2007-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN101364056A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;史永涛;曾浩 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，其含有：氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。本发明的光刻胶清洗剂可有效除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它残留物，同时对于Cu(铜)等金属具有较低的蚀刻速率，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶清洗剂，其特征在于含有：氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。
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